国产光刻机之路,任重而道远

那么阿斯麦制造的EUV光刻机都卖给了谁？数据显示，2019年该公司共生产了26台EUV光刻机，其中有一半卖给了台积电，剩余一半卖给了英特尔、三星等客户。国内半导体代工企业中芯国际曾花了1.2亿美元订购一台，因为你懂的原因，至今尚未交付。

1983年，当时依旧隶属飞利浦科学与工业部的阿斯麦公司工程师们，正在检测PAS2000型光刻机，阿斯麦公司是飞利浦与ASM公司合资建立的企业

荷兰阿斯麦的成功不是偶然的，也是有迹可循的，首先，它30年内专注发展光刻机核心技术，保持稳定的战略目标，不断研发新技术新产品。从浸入式光刻机到EUV光刻机的生产，阿斯麦和它的合作伙伴不断挑战摩尔定律，突破芯片加工极限。而作为曾碾压阿斯麦的竞争对手，佳能和尼康逐渐进入数码相机等来快钱的消费电子市场，从而失去了光刻机领域的优势。

其次，阿斯麦通过投资和入股等方式，获取光刻系统的核心技术，而光刻机90%的其他部件都是合作和外购世界顶级技术产品，比如德国机械、蔡司镜头和美国光源。同时引入英特尔、台积电和三星等电子巨头的注资，形成了无法复制的战略利益共同体。

阿斯麦和台积电等下游公司也同样通过股份战略合作，形成利益和研发共同体，台积电用EUV磨练芯片加工技术，同时台积电又把芯片加工中遇到的问题和新的要求不断反馈给ASML，从而开创技术创新和质量改进的双赢局面，台积电也成为全球首家提供5nm制程代工业务的芯片厂商。

国产之路，任重道远

再来看看国内的光刻机研发状况，其实我国在60年代第一块集成电路问世之后，就开始了光刻工艺的研究，但在80年代以后，随着“造船不如买船，买船不如租船”的说法流行，由于也缺乏相应的芯片产业链，很多自主攻关项目纷纷下马。当前，我国光刻机的主要生产厂家是上海微电子，已经实现90纳米制程量产，28 nm工艺的国产光刻机也预计在2021年交货，虽然和国际领先的5 nm还有几倍差距，但已经可以满足国内芯片市场的中端需求。

2019年4月，光电团队武汉国家技术研究中心团队利用两束激光在自主研发的光刻胶上突破光束衍射极限，利用远场光学成功雕刻出一条宽9nm的线段，实现了从超分辨率成像到超扩散极限光刻的重大创新。然而，从技术实验室成功，到可批量化大批制造的商用设备，依旧还有很长的路要走。特别是需要几万个零部件要达到高精准度的高端光刻机，其中的关键高精度零部件比如镜头、光源、轴承等，目前国内产业链的制造水平还暂时达不到，需要长期联合攻关，我们的任务依旧艰巨而繁重。

（编辑：辽源站长网）

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